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商品详情
北仪优成真空泵——晶圆镀膜高效真空解决方案
?? 应用场景
北仪优成真空泵专为半导体晶圆镀膜（PVD/CVD）工艺设计，适用于：
- 金属镀膜（Al、Cu、Ti等）
- 介质层沉积（SiO?、Si?N?）
- 光刻胶涂覆前处理
- 离子注入辅助真空
确保镀膜均匀性、附着力及低缺陷率，满足5nm以下先进制程的严苛要求。
? 产品特点
1.超高真空度
- 极限真空达10?? Pa（根据实际参数调整），快速抽除腔体气体，减少镀膜前准备时间。
2. 无油洁净设计
- 干式泵或分子泵方案可选，杜绝油蒸气污染，保障晶圆表面零颗粒残留。
3. 精准压力控制
- 配备PID调节系统，真空度波动范围≤±1%，确保镀膜厚度一致性。
4. 抗腐蚀处理
- 泵腔与镀膜工艺气体（如Cl?、SF?）兼容，特殊涂层延长关键部件寿命。
?? 核心优势
对比项
北仪优成真空泵
普通真空泵
真空稳定性
智能反馈控制，波动<1%
手动调节，波动≥5%
洁净度
全无油设计，ISO 1级
油润滑，存在污染风险
维护周期
连续运行6个月免维护
每月需更换滤芯/油
能耗
变频驱动节能30%
定频运行，能耗高
?? 成功案例
某国际半导体代工厂
- 需求：提升12英寸晶圆铜镀膜良品率，解决传统泵颗粒污染问题。
- 方案：定制北仪优成干式螺杆泵+分子泵组，集成原位清洗功能。
- 效果：
- 镀膜缺陷率下降 72%（从500ppm→140ppm）；
- 抽气速度提升 40%，单批次产能增加；
- 获客户“设备供应商”认证。
北仪优成真空泵通过超高真空、零污染、长寿命三大特性，成为晶圆镀膜工艺的可靠选择：
- 降低生产成本：减少维护频次与废品率；
-提升技术指标：满足先进制程对真空环境的要求；
- 灵活适配：支持与AMAT、Lam Research等主流镀膜设备配套。
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